高溫氣氛爐用于對(duì)工件進(jìn)行高溫加熱燒結(jié),其操作功能包含:抽真空→爐內(nèi)充氣、放氣、穩(wěn)壓(按鈕啟動(dòng)充氣閥和放氣閥+流量計(jì)調(diào)節(jié))→溫度時(shí)間參數(shù)設(shè)定(用戶在操作屏界面設(shè)定溫度時(shí)間參數(shù))→全過程自動(dòng)燒結(jié)(系統(tǒng)按設(shè)定的溫度時(shí)間參數(shù)自動(dòng)完成全過程燒結(jié)工作)→循環(huán)冷卻(采用夾套水方式進(jìn)行循環(huán)冷卻)同時(shí)該高溫氣氛爐還具備真空狀態(tài)下加熱功能。
納米金剛石刀具優(yōu)勢(shì):金剛石涂層刀具選擇應(yīng)用的主要依據(jù)是工件材料的屬性及加工質(zhì)量要求?;瘜W(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,簡(jiǎn)稱CVD)金剛石涂層具有接近天然金剛石的高硬度、高導(dǎo)熱系數(shù)、低摩擦和低膨脹系數(shù)等諸多優(yōu)異的性能,在加工石墨等脆性材料以及碳纖維復(fù)合材料時(shí),已經(jīng)成為切削刀具的表面涂層,在
磁控濺射是物..相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
納米金剛石復(fù)合涂層拉拔模具,是以硬質(zhì)合金(WC-Co)為襯底,采用化學(xué)氣相法(簡(jiǎn)稱CVD法)在模具的內(nèi)孔表面涂覆常規(guī)金剛石和納米金剛石復(fù)合涂層,并對(duì)涂層進(jìn)行研磨拋光后得到的一種全新產(chǎn)品。內(nèi)孔表面涂覆的納米金剛石復(fù)合涂層,既具有常規(guī)金剛石涂層附著力強(qiáng)、耐磨的特點(diǎn),又具有納米金剛石涂層表面平整光滑、摩擦系數(shù)小和容易研磨拋光
納米金剛石復(fù)合涂層拉拔模具,是以硬質(zhì)合金(WC-Co)為襯底,采用化學(xué)氣相法(簡(jiǎn)稱CVD法)在模具的內(nèi)孔表面涂覆常規(guī)金剛石和納米金剛石復(fù)合涂層,并對(duì)涂層進(jìn)行研磨拋光后得到的一種全新產(chǎn)品。內(nèi)孔表面涂覆的納米金剛石復(fù)合涂層,既具有常規(guī)金剛石涂層附著力強(qiáng)、耐磨的特點(diǎn),又具有納米金剛石涂層表面平整光滑、摩擦系數(shù)小和容易研磨拋光
納米金剛石復(fù)合涂層拉拔模具,是以硬質(zhì)合金(WC-Co)為襯底,采用化學(xué)氣相法(簡(jiǎn)稱CVD法)在模具的內(nèi)孔表面涂覆常規(guī)金剛石和納米金剛石復(fù)合涂層,并對(duì)涂層進(jìn)行研磨拋光后得到的一種全新產(chǎn)品。內(nèi)孔表面涂覆的納米金剛石復(fù)合涂層,既具有常規(guī)金剛石涂層附著力強(qiáng)、耐磨的特點(diǎn),又具有納米金剛石涂層表面平整光滑、摩擦系數(shù)小和容易研磨拋光
納米金剛石復(fù)合涂層拉拔模具,是以硬質(zhì)合金(WC-Co)為襯底,采用化學(xué)氣相法(簡(jiǎn)稱CVD法)在模具的內(nèi)孔表面涂覆常規(guī)金剛石和納米金剛石復(fù)合涂層,并對(duì)涂層進(jìn)行研磨拋光后得到的一種全新產(chǎn)品。內(nèi)孔表面涂覆的納米金剛石復(fù)合涂層,既具有常規(guī)金剛石涂層附著力強(qiáng)、耐磨的特點(diǎn),又具有納米金剛石涂層表面平整光滑、摩擦系數(shù)小和容易研磨拋光
釬焊爐原理:通過高溫將金屬焊料加熱至熔化狀態(tài),并利用熔化的焊料將兩個(gè)或多個(gè)金屬工件連接在一起。應(yīng)用:爐中釬焊廣泛應(yīng)用于家具制造、航空、航天、汽車制造等復(fù)雜的工業(yè)領(lǐng)域。在這些領(lǐng)域中,金屬構(gòu)件往往承受著很大的壓力和摩擦,而爐中釬焊可以為這些構(gòu)件提供高強(qiáng)度的連接和修復(fù)的效果。爐中釬焊還可以用于制造和修復(fù)高溫高壓的管道和鍋爐等
磁控濺射是物..相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。