HFCVD化學氣相沉積金剛石，原理為:將含碳氣氛與過飽和的氫氣混合，經過某種方式活化后通在一定的氣氛組成、 活化能量、襯底溫度以及襯底與活化源之間的距離等條件下，在底表面沉積金剛石薄膜。一般認為， 金剛石膜的形核與生長可以分為三個階段：
(1)含碳氣體和氫氣在一定 的溫度下分解成碳、氫原子和其它活性游離基團，他們與基體結合先形成一層很薄的碳化物過渡層；
(2)碳原子在基體上形成的過渡層上沉積金剛石晶核；
(3)形成的金剛石晶核在適當?shù)沫h(huán)境下長大成金剛石微品，繼而長大成金剛石薄膜 。

納米涂層優(yōu)勢：

納米金剛石復合涂層拉拔模具，是以硬質合金（WC-Co）為襯底，采用化學氣相法（簡稱CVD法）在模具的內孔表面涂覆常規(guī)金剛石和納米金剛石復合涂層，并對涂層進行研磨拋光后得到的一種全新產品。內孔表面涂覆的納米金剛石復合涂層，既具有常規(guī)金剛石涂層附著力強、耐磨的特點，又具有納米金剛石涂層表面平整光滑、摩擦系數(shù)小和容易研磨拋光等優(yōu)點，納米金剛石復合涂層技術，不僅解決了涂層附著力這一技術難題，而且突破了金剛石涂層表面不易拋光這一瓶頸，掃除了CVD金剛石薄膜產業(yè)化的障礙。